【开源电子】拓荆科技：拟收购尚积半导体，布局PVD、刻蚀，迈向平台型公司
✔️事件：今日盘后拓荆科技发公告，宣布拟通过发行股份及支付现金方式收购尚积半导体。
公司主产品是PVD，布局CVD与干法刻蚀，PVD覆盖工艺主要包含MEMS的氧化钒、吸气薄膜，功率器件的热铝填孔、SiC的背面金属。近年公司逐步切入硅基背面金属、RF氮化钽Lift Off薄膜、滤波器TC-SAW领域的HD SiO2以及先进封装TSV电极、阻挡层与种子层沉积。
，目前公司绝大部分订单来源于MEMS、功率和RF PVD，主要客户包括海康、芯联集成、上海积塔、士兰微等。
虽然短期来看尚积产品主要应用于MEMS与功率，但我们认为拓荆有望通过尚积的产品首先，并逐步向前道PVD、刻蚀领域迈进，形成前道+后道同步布局的平台化半导体设备公司，远期市场空间进一步抬升。
陈蓉芳/向俊儒